这是抛光工艺所要求的必须严格执行的工艺步骤。抛光前，空气中的尘颗粒落到抛光布上如不清洗就加工，会对晶体片的表面造成拉丝损伤。因此每次清洗抛光垫，就是要使最干净的抛光垫表面对晶体片的表面进行加工。

抛光后，同样要清洗抛光垫，这是因为所使用的抛光液中，有碱、酸及其它各种化学物质，这些物质如不清洗，就会存藏在抛光垫的细孔中而产生结晶。

下次抛光，晶片表面会造成拉丝、划道，这些物质对抛光垫的软硬也是有很大影响，会造成抛光垫的老化、变硬，影响抛光垫的使用效果和寿命。

抛光后，马上清洗抛光垫，不但清洁的抛光垫为下一次抛光打下个好的基础，同时延长抛光垫的使用寿命。

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